ディップコーター（ディップコーティング装置）の株式会社SDI

ディップコーター専門メーカーの
トップランナー

業界トップクラスの 業歴と技術: ディップコーター専門メーカーとして３０年目; 1997年の設立以来、ディップコーターの専門メーカーとして長きにわたり技術を蓄積。ディップコーティングに特化して培った業歴は、３０年目（2026年現在）となり業界内でもトップクラスの信頼性を裏付けています。

ディップコーターの 安全性・規格対応: CE・UL・防爆規格対応モデルを網羅; CEマーキング適合モデルを多数展開していることに加え、「UL認定取得装置（SA-1509UL）」や「防爆認証部品搭載機（DT-2412-N1-EP）」など、海外展開や厳格な安全基準が求められる現場に対応できる規格認証ラインナップの多さで他社をリードしています。

国内外の研究機関への 豊富な導入実績: 東京大学、京都大学、大阪大学、スタンフォード; 東京大学、京都大学、大阪大学などの国内主要国立大学に加え、アメリカのスタンフォード大学をはじめとする海外の著名な大学や研究機関への導入実績も有しています。最先端の学術研究や論文・学会発表を支える機材としてグローバルに採用されております。

業界No.1クラスの多彩な ラインナップ: ３５種類のディップコーター; 実験・研究開発用の卓上型から、小ロット生産・離型剤塗布用、量産向けの全自動装置まで、約35機種以上の標準モデルをラインナップ（カスタマイズモデルもございます）。研究用途から量産ラインまでカバーする製品バリエーションの豊富さは、業界No.1クラスを誇ります。

私たちのディップコーターで
解決できること

ディップコーター専門メーカーとして30年目。

1997年設立から培った業界トップクラスの業歴は、

常にトップランナーとして挑み続けた証しです。

研究用途から量産ラインまでカバーする35機種以上のラインナップ。

世界基準の安全性（CE・UL・防爆規格）を満たす開発力。

さらには専用クリーンルームを完備した一貫受託体制まで。

私たちが長年培ってきたディップコーティングに特化した技術と、

装置販売だけに終わらない包括的な支援体制で、

お客様が抱える薄膜形成の課題を解決へと導きます。

ディップコーターの選び方

ディップコーター(薄膜形成装置)
多様な研究開発ニーズに応える幅広いラインナップが特長です。多くの機種がCEマーキングに適合し、安全性と高精度なコーティング処理を両立している点が強みです。
特殊機能ディップコーター
単純な浸漬にとどまらず、高度な制御や特殊な環境・形状要件に対応できる点が特長です。多種多様なプロセス課題を解決するための高い専門性を備えた製品群となっています。
離型剤塗布用ディップコーター
多様なワーク形状やプロセス要件に柔軟に対応できる豊富なラインナップです。研究開発から量産まであらゆるニーズに最適な解決策を提供します。
量産用自動ディップコーター
量産用自動ディップコーター製品群は、多様な生産形態や要求品質に応じた幅広いラインナップが特長です。量産時の各工程の特有の課題を解決する専門的な機能を備えています。
学術研究における課題解決事例から見る
研究者向けに、弊社のディップコーターを用いた薄膜形成の課題解決策を、具体的な研究事例とともにご紹介します。

ディップコーター(薄膜形成装置)

製品選びのポイント: 製品選びでは、目的と対象基板に応じた精度と環境のバランスを見極めることが重要です。ナノ精度の薄膜や多層膜形成では、わずかな振動や速度変動が膜品質に直結するため、外乱対策など設置環境の整備が不可欠です。簡易機はコストと可搬性に優れますが、高精度用途には不向きです。大型基板を扱う際は、液面の揺動や装置のたわみが影響するため、高剛性モデルの選定や適切な治具設計が求められます。装置の仕様だけでなく、プロセス設計も考慮し、用途に最適な一台を選択してください。上記を踏まえて私たちに相談いただくのが最も良いかと思います。

多槽多層プロセスディップコーター

製品型番
OD-2304-N1-CE

製品分類
多槽 / 多層形成
仕様性能比較

主な導入ケース
ディップコーティングによる多層膜形成や交互吸着プロセスを、自動化により安定かつ高再現で実現したい場合

製品選定の決め手
最大10槽を任意順で自動制御できるため複雑な多層プロセスを再現性高く実行できる点

主な仕様や機能
ストロークZ150,X150mm , 速度1nm,sec〜60mm/sec , 多槽制御

適合規格,認証等
CEマーキング適合品 , 登録商標：オルタネイトディップ®

技術コメント
多槽間の工程設計と液順序により最終膜構造が大きく変わるためプロセス設計が重要
ナノ精度ディップコーター（卓上型）

製品型番
ND-0407-N1-CE

製品分類
卓上 / ナノ精度
仕様性能比較

主な導入ケース
ディップコーターによるナノ領域の薄膜形成や粒子配列において、極低速かつ安定したディップコーティング制御で精密構造を実現したい場合

製品選定の決め手
1nm/secの超低速制御と2軸制御によりナノレベルのディップコーティングを安定して実現できる点

主な仕様や機能
ストロークZ150,X150mm , 速度1nm,sec〜60mm/sec , 2軸制御

適合規格,認証等
CEマーキング適合品 , 登録商標：ナノディップ®

技術コメント
振動や速度安定性がそのまま膜品質に影響するため設置環境と条件出しが重要
ナノ精度ディップコーター（汎用卓上）

製品型番
MD-0408-N1-CE

製品分類
卓上 / ナノ精度
仕様性能比較

主な導入ケース
ディップコーティングで微細膜の再現性と操作性を両立し、安定した評価を効率よく進めたい場合

製品選定の決め手
ナノ精度を維持しつつ操作性とコンパクト性を両立している点

主な仕様や機能
ストローク150mm(最大300mmまで) , 速度1nm,sec〜60mm/sec , 卓上型

適合規格,認証等
CEマーキング適合品 , 登録商標：マイクロディップ®

技術コメント
微細膜では環境影響が支配的となるため再現性確保には外乱対策が不可欠
汎用ディップコーター（小型評価用）

製品型番
DT-0303-N1-CE

製品分類
卓上 / 汎用
仕様性能比較

主な導入ケース
初期検討や小型試料評価において、シンプルかつ迅速にコーティング条件を把握したい場合

製品選定の決め手
シンプル構造により導入直後から安定したディップコーティング評価が可能な点

主な仕様や機能
ストローク300mm , 速度0.01〜60mm/sec , 汎用

適合規格,認証等

技術コメント
簡易機では制御精度に限界があるため用途に応じた機種選定が重要
簡易ディップコーター（ポータブル）

製品型番
DT-0001-N1

製品分類
卓上 / 簡易評価
仕様性能比較

主な導入ケース
持ち運びや簡易評価用途において、低コストかつ即時実験が可能な環境を構築したい場合

製品選定の決め手
可搬性と低コストを両立しどこでもすぐに実験環境を構築できる点

主な仕様や機能
ストローク150mm , 速度1μm/sec〜 , ポータブル

適合規格,認証等
登録商標：ポータブルディップ®

技術コメント
精度より可搬性と価格を優先する設計のため高精度用途には適用範囲の見極めが必要
中型ディップコーター（基板評価用）

製品型番
DT-0502-N1-CE

製品分類
中型 / 汎用
仕様性能比較

主な導入ケース
大型基板に対するディップコーティングにおいて、長ストロークでも安定した処理条件を確保したい場合

製品選定の決め手
長ストロークでも安定した引上げ制御が可能で大型基板に対応できる点

主な仕様や機能
ストローク700mm , 速度0.01〜60mm/sec , 中型対応

適合規格,認証等
CEマーキング適合品

技術コメント
大型基板では液面揺動や振動の影響が増大するため条件最適化が重要
大型ディップコーター（高剛性タイプ）

製品型番
DT-1508-N1-CE

製品分類
大型 / 高安定構造
仕様性能比較

主な導入ケース
大型基板や長尺材料に対して、たわみや振動の影響を抑えた安定処理を行いたい場合

製品選定の決め手
大型負荷でも振動を抑えた安定動作が可能な高剛性構造である点

主な仕様や機能
ストローク1000mm , 速度0.01〜60mm/sec , 高剛性

適合規格,認証等
CEマーキング適合品

技術コメント
重負荷時は装置剛性と振動制御が膜均一性を左右するため設置条件が重要
大型ディップコーター（カスタム対応）

製品型番
DT-1704

製品分類
大型 / 高安定構造
仕様性能比較

主な導入ケース
大型試料の研究用途で、サイズ制約なく柔軟にコーティング条件を検討したい場合

製品選定の決め手
大型試料でも制約なく扱える柔軟性とカスタム対応力を持つ点

主な仕様や機能
ストローク800mm , 速度0.1〜60mm/sec , カスタム対応

適合規格,認証等

技術コメント
大型用途では装置仕様以上に治具設計と条件設定が結果を左右する

装置名	多槽多層プロセスディップコーター	ナノ精度ディップコーター（卓上型）	ナノ精度ディップコーター（汎用卓上）	汎用ディップコーター（小型評価用）	簡易ディップコーター（ポータブル）	中型ディップコーター（基板評価用）	大型ディップコーター（高剛性タイプ）	大型ディップコーター（カスタム対応）
型式	OD-2304-N1-CE	ND-0407-N1-CE	MD-0408-N1-CE	DT-0303-N1-CE	DT-0001-N1	DT-0502-N1-CE	DT-1508-N1-CE	DT-1704

ストローク	Z軸:150mm、X軸:150mm	Z軸:150mm、X軸:150mm	150mm(最大300mmまで)	300mm	150mm	700mm	1000mm	800mm
最小速度	1nm/sec	1nm/sec	1nm/sec	0.01mm/sec	1μm/sec	0.01mm/sec	0.01mm/sec	0.1mm/sec(1μm/sec)
最大速度	60mm/sec	60mm/sec	60mm/sec	60mm/sec	20mm/sec	60mm/sec	60mm/sec	60mm/sec(10mm/sec)
操作方法	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル
画面文字	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語
処理速度変更ポイント数	16ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	無	16ポイント	16ポイント	16ポイント
停止位置指定ポイント数	16ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	無	16ポイント	16ポイント	16ポイント
停止時間指定ポイント数	16ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	無	16ポイント	16ポイント	16ポイント
連続運転モード	有	有	有	有	無	有	有	有
マニュアル運転モード	有	有	有	有	無	有	有	有
記憶プログラム数	8プログラム	8プログラム	8プログラム	8プログラム	無	8プログラム	8プログラム	8プログラム
モニタ機能:現在速度	有	有	有	有	無	有	有	有
モニタ機能:現在位置	有	有	有	有	無	有	有	有
モニタ機能:動作残時間	有	有	有	有	無	有	有	有
繰返運転機能	有	有	有	有	無	有	有	無
標準クリップ	PP材	PP材	PP材	SUS材	PP材	SUS材	SUS材	特注クリップ
ユーティリティー	AC100V、300VA	AC100V-240V、300VA	AC100V-240V、300VA	AC100V-240V、300VA	AC100V、200VA	AC100V、250VA	AC100V、250VA	AC100V、15A
可搬重量	500g	500g	1kg	1kg	1kg	5kg	10kg	6.5kg
最大処理サイズ	H:150mm	H:100mm	H:150mm	H:300mm	H:150mm	H:700mm	H:1050mm	W:1450 H750 D100mm t5.0
装置サイズ:突起含まず(重量)	W:410　D:256　H:513(11kg)	W:410　D:256　H:513(11kg)	W:350 D:256 H507:(9kg)	W:430 D:476 H:815(15kg)	W:410　D:210　H:495(8kg)	W:600　D:500　H:1899(50kg)	W:1000　D:700　H:2553(100kg)	W:2200　D:1000　H:2400
コントロールBOXサイズ:突起含まず(重量)	W:380　D:400　H:200　(10kg)	W:380　D:400　H:200　(10kg)	W:380　D:400　H:200　(10kg)	W:380　D:400　H:200　(10kg)	W:300　D:285　H:163(7kg)	W:300　D:285　H:163(7kg)	無
特徴とコメント	【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品です。】最大10槽の液槽を自在に制御。1 nm/sec〜60 mm/secの精密動作で多層膜研究を支える。	【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品です。】ナノ単位制御とθ角制御で、超低速・高精度コーティングを実現する次世代ディップコーター。	【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品です。】 1 nm/secから60 mm/secまでの高精度速度制御。超低速領域で真価を発揮する研究用ディップコーター。	【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品です。】卓上で精密な薄膜形成を実現。研究室での試験や小試料評価に最適な小型ディップコーター。	軽量・簡易・低コスト。持ち運び自在な研究用ポータブルディップコーター。	【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品です。】 700 mm角ワークに対応。中型試料の精密コーティングを卓上で実現する高精度ディップコーター。	【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品です。】長尺・円柱・大型基材に対応。0.01mm/sec単位制御の高精度ロングスケールディップコーター。	最大800mmストローク対応。湾曲・大型基材にも均一膜形成を実現する特注ディップコーター。

特殊機能ディップコーター

製品選びのポイント: 製品選びでは、目的とする機能に伴う「条件設定のシビアさ」や「運用の制約」を理解することが重要です。リニア制御や多軸制御で高い膜均一性を得るには、速度変化や同期精度の綿密な条件設計が不可欠です。環境対策機や防爆仕様機を選ぶ際も、簡易風防の限界や、通常機とは異なる条件適用の制約を事前に把握する必要があります。また、液循環機能を利用する場合は、撹拌で液の分散状態が変わるため塗布液自体の設計も併せて検討します。ハード仕様だけでなく、実際の運用条件をセットで考慮することが選定の鍵となります。詳細は私たちに相談いただきながら進めること強くお勧めいたします。

装置名	リニア制御ディップコーター（膜厚制御用）	多軸回転ディップコーター（複雑形状対応）	長物対応ディップコーター	円筒対応ディップコーター（循環機構付）	円筒保持ディップコーター	防爆対応ディップコーター	大型循環ディップコーター	クリーン一体型ディップコーター	風防除振ディップコーター	液循環ディップコーター（多工程対応）	多槽工程ディップコーター	多軸制御ディップコーター（4軸対応）	精密面制御ディップコーター	N2パージ対応ディップコーター
型式	LD-1304-S2	LD-2404-N1	DT-1303-S1	DT-1903	DT-2002	CR-ND26	FB-MD26	DT-2412-N1-EP	DT-1911	MD-1501-S1	MD-1802	DT-1609-4D1	MD-1405-S1	LD-1811

ストローク	300mm	300mm	780mm	550mm	550mm	150mm	150mm	300mm	900mm	300mm	Z軸:95mm、X軸1195mm	Z軸:300mm、X軸:±150mm	300mm	100mm
最小速度	0.1mm/sec	昇降軸:0.001mm/sec 回転軸:0.001degree/sec	1mm/sec	0.1mm/sec	0.1mm/sec	1nm/sec	1nm/sec	0.1mm/sec	0.1mm/sec	0.01mm/sec	Z軸0.001mm/sec、X軸0.1mm/sec	昇降軸:0.1mm: 旋回軸:0.1degree:自転1.0degree/sec	1μm/sec	0.01mm/sec
最大速度	200mm/sec	昇降軸:200mm/sec 回転軸:20degree/sec	100mm/sec	60mm/sec	60mm.sec	60mm/sec	60mm/sec	60mm/sec	60mm/sec	100mm/sec	Z軸40mm/sec、X軸60mm/sec	昇降軸:60mm: 旋回軸:10degree:自転30degree/sec	60mm/sec	60mm/sec
操作方法	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル	タッチパネル
画面文字	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語	日本語/英語
処理速度変更ポイント数	16ポイント	16ポイント	8ポイント	8ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	8ポイント	8ポイント	8ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント
停止位置指定ポイント数	16ポイント	16ポイント	8ポイント	8ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	8ポイント	8ポイント	8ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント
停止時間指定ポイント数	16ポイント	16ポイント	8ポイント	8ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント	8ポイント	8ポイント	8ポイント	16ポイント	16ポイント	16ポイント
連続運転モード	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有
マニュアル運転モード	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	無	有	無
記憶プログラム数	8プログラム	8プログラム	2プログラム	2プログラム	8プログラム	8プログラム	8プログラム	8プログラム	2プログラム	2プログラム	2プログラム	8プログラム	8プログラム	8プログラム
モニタ機能:現在速度	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有
モニタ機能:現在位置	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有
モニタ機能:動作残時間	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有	有
繰返運転機能	無	無	無	無	有	有	有	有	無	無	無	無	無	無
標準クリップ	SUS材	SUS材	SUS材	無	SUS材	PP材	PP材	SUS材	無	無	無	無	PP材	無
ユーティリティー	AC100V、400VA	AC100V、400VA	AC100V、250VA	AC100V、15A	AC100V-110V、1000VA	AC100V-240V、300VA	AC100V-240V、300VA	AC100V-110V、1000VA ﾄﾞﾗｲｴｱｰ(制御BOX用)	AC100V、15A	AC100V、15A	AC100V、15A	AC100V、250VA	AC100V、250VA	AC100V、250VA
可搬重量	1kg	1kg	5kg	3kg	5kg	500g	1kg	1kg	3kg	5kg	1kg	1kg	1kg
最大処理サイズ	H:300mm	H:300mm	H:780mm		φ20～φ60、L:220～400mm	H:100mm	H:150mm	H:300mm	W:1800×H:2401×D:1065mm	W100×H100mm 複数枚同時処理	W:40×D:40×H:50mm	H:250mm	H:300mm	W:40×H40mm t4.0
装置サイズ:突起含まず(重量)	W:270　D:315　H:1066(16kg)	W:270　D:315　H:1066(16kg)	W:800　D:800　H:2100(120kg)	W:600　D:500　H:1561mm	W:1100×D:650×H:2360mm	W:720　D:700　H:800mm(約45kg)	W:720　D:760　H:612mm(約60kg)	W:600 D:620 H:1267mm (70kg)	W:1800 D:1065 H:2401	W:700×D:550×H:1450mm		W:810　D:800　H:900 (30kg)	W:250　D:250　H:610
特徴とコメント	速度をリニアに制御し膜厚変化を自在化。0.1〜200 mm/sec対応の高精度ディップコーター。	回転軸と昇降軸の協調制御で複雑形状にも均一膜形成。1μm/sec〜200mm/sec対応。	長尺・棒状ワーク専用設計。スライド式タンクで吊下げ操作を容易にした高精度ディップコーター。	循環・温調・濾過機構を備えた管状試料専用モデル。均一膜形成を少量塗料で実現。	円筒ワークを高精度コート。4本同時処理対応の専用装置。	ナノ単位制御とθ角制御に、FFU付風防BOXをプラス。清浄な環境で、超低速・高精度コーティングを実現する次世代ディップコーター。	風防BOXと除振台で気流・振動の影響を抑制。1 nm/secからの超低速制御を、より安定した実験環境で実現する研究用ディップコーター。	防爆認証モーターと近接スイッチを搭載。爆発危険環境での高精度コーティングを実現。	塗布液循環機構を搭載。多液対応と均一膜形成を両立した大型試料用ディップコーター。	PTFE構造で耐薬品性を強化。高精度循環制御の信頼性モデル。	8槽制御で多層膜を高精度形成。研究開発向け多工程装置。	昇降・横行・旋回・自転の4軸制御で複雑形状に完全追従。多自由度ディップコーターの新基準。	1/100平行度で冶具を保持。面精度が要求される高精度ペーストコートに最適な新構造モデル。	N₂雰囲気で酸化を防止。多試料を高精度に処理する防爆対応機。

離型剤塗布用ディップコーター

製品選びのポイント: 製品選定の最大のポイントは、「周辺工程とワーク特性に対する最適化」です。離型剤の最終的な膜品質や密着性は、前処理（洗浄）や乾燥条件に強く依存するため、品質安定には洗浄・乾燥機能を統合したモデルが有効です。また、大型重量物であれば振動管理、ロール材であれば張力と回転の安定性が膜の均一性を左右します。多品種を扱う際は、液切替時のクロスコンタミを防ぐ洗浄設計が鍵となります。単なる基本スペックだけでなく、プロセス全体を見据えたライン設計を基準に最適な一台を選定してください。詳細は私たちに相談いただきながら進めること強くお勧めいたします。

洗浄一体型ディップコーター

製品型番
SA-1109

製品分類
洗浄 /離型剤塗布
仕様性能比較

主な導入ケース
ディップコーティング前の汚れや異物を確実に除去し、最終膜品質を向上させたい場合

製品選定の決め手
超音波洗浄により微細な汚れまで除去し品質を安定できる点

主な仕様や機能
ストローク350mm , 超音波洗浄 , 8inch対応

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
前処理品質が最終膜品質を支配するため洗浄条件の最適化が不可欠
洗浄乾燥一体ディップコーター

製品型番
SA-1202

製品分類
洗浄 /離型剤塗布
仕様性能比較

主な導入ケース
ディップコーティング前後の洗浄から乾燥までを一貫処理し、工程ばらつきを排除したい場合

製品選定の決め手
洗浄から乾燥までを一体化し工程ばらつきを排除できる点

主な仕様や機能
ストローク590mm , 洗浄＋乾燥 , 一体構造

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
乾燥条件によって密着性と膜品質が変化するため温度・時間管理が重要
大型円筒ディップコーター（ナノインコーター）

製品型番
NIC-2409

製品分類
大型 / 円筒プロセス
仕様性能比較

主な導入ケース
大径円筒ワークに対して均一かつ安定した離型剤塗布を行いたい場合

製品選定の決め手
大径円筒にも対応できる専用機構で均一塗布を実現できる点

主な仕様や機能
ストローク440mm , L1600mm,φ200〜700mm対応 , 円筒処理

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
重量物搬送時の安全設計と振動管理が膜品質に影響するため設備設計が重要
小型精密ディップコーター（ナノインコーター）

製品型番
NIC-1410-S1

製品分類
小型 / 特化用途
仕様性能比較

主な導入ケース
小型・複雑形状ワークにおいて高再現性で精密なディップコーティングを行いたい場合

製品選定の決め手
小型特化設計により高い再現性と精密塗布を両立している点

主な仕様や機能
ストローク138mm , 速度0.1〜30mm/sec , 小型特化

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
小型特化機のため適用範囲を超えると再現性が確保できない点に注意
ロール対応ディップコーター（連続処理）

製品型番
NIC-1308

製品分類
ロール / 連続処理
仕様性能比較

主な導入ケース
フィルムやロール材に対して連続的かつ均一なディップコーティングを実現したい場合

製品選定の決め手
回転制御によりロール材の連続処理と均一性を両立できる点

主な仕様や機能
対象L700mm , 回転1〜30rpm , ロール対応

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
張力と回転安定性が膜均一性を左右するため搬送条件の最適化が重要
多液対応ディップコーター

製品型番
NIC-1510

製品分類
多液 / 多品種
仕様性能比較

主な導入ケース
複数の離型剤塗布液を使い分けながら多品種試作を効率的に行いたい場合

製品選定の決め手
タンク交換と洗浄機構により多液運用でも安定した試作が可能な点

主な仕様や機能
ストローク320mm , 速度0.1〜60mm/sec , 多液対応

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
液切替時にクロスコンタミが発生すると膜性能に影響するため洗浄設計が重要
大型精密ディップコーター（ナノインコーター）

製品型番
NIC-2003

製品分類
大型 / モールド離型処理
仕様性能比較

主な導入ケース
大型ガラス基板やセラミック・樹脂などの大面積ワークに対して、均一膜の離型剤塗布を安定して実現したい場合

製品選定の決め手
高剛性構造と独立した循環機構により、大型ワークでも塗布液状態を安定維持しながら高い再現性で均一塗布できる点

主な仕様や機能
ストローク1300mm , 速度0.1〜60mm/sec , 大型基板対応 , 塗布液循環機構（2槽構成）

適合規格,認証等

技術コメント
大型ワークでは撓みや振動の影響が膜均一性に直結するため、装置剛性と搬送・昇降安定性の確保が重要
多槽自動ディップコーター

製品型番
DT-1812

製品分類
多槽 / 自動プロセス
仕様性能比較

主な導入ケース
複数工程を連続処理し、ディップコーティングプロセス全体の再現性と効率を高めたい場合

製品選定の決め手
多槽自動化により複数工程を連続処理できる点

主な仕様や機能
ストロークZ150,X850mm , 速度0.1〜60mm/sec , 多槽自動化

適合規格,認証等
登録商標：ナノインコーター®

技術コメント
工程設計により最終品質が決まるためライン設計が最重要

装置名	洗浄一体型ディップコーター	洗浄乾燥一体ディップコーター	大型円筒ディップコーター	小型精密ディップコーター	ロール対応ディップコーター（連続処理）	多液対応ディップコーター	大型精密ディップコーター	多槽自動ディップコーター
型式	SA-1109	SA-1202	NIC-2409	NIC-1410-S1	NIC-1308	NIC-1510	NIC-2003	DT-1812

ストローク	350mm	590mm	440mm	138mm	－	320mm	1300mm	Z軸:150mm、X軸:850mm
対象サイズ	8inch	φ132mm×H:250mm	Φ200～Φ700、L:1600mm	W70×H70mm t1.5	全長700mm、重量7kgまで	φ250　t0.3	W:1500×H:1200mm、 t10	W:150×H:150mm t1.0
対象材質	ウエハー、ガラス	石英ガラス、金属	アクリル、ガラス、金属	ガラス等	金属、セラミック、樹脂、ガラス等	ウエハー、金属板	ガラス、セラミック、樹脂等	アクリル、ガラス、金属
ディップ速度	0.1mm/sec～40mm/sec	0.1mm/sec～110mm/sec	0.1mm/sec～25mm/sec	0.1mm/sec～30mm/sec	回転数:1〜30rpm	0.1mm/sec～60mm/sec	0.1mm/sec～60mm/sec	・Z軸:0.1〜60mm/sec ・X軸:0.1mm〜60mm/sec
塗布液循環部	有	有	有	有	有	無	有	無
塗布液温度管理	無	有	無	無	無	無	無	無
フィルターメッシュ	無（オプション可能）	無（オプション可能）	0.1μm	有	0.2μm	無	無	無
乾燥部	有	有	無	無	有	無	無	無
乾燥温度	無（オプション可能）	室温	無	無	Max80℃	無	無	無
ヘパユニット	無（オプション可能）	無（オプション可能）	有	有	有	無	無	無
装置サイズ(概寸)	W:1850×D:900×H:1880mm	W:2575×D:1100×H:1984mm	W:3000×D:2250×H:1885mm	W:450×D:440×H:1000mm	W:1900×D:900×H:1995mm	W:1100×D:975×H:1410mm	W:2200×D:2000×H:3253mm	W:1301×D:640×H:836mm
特徴とコメント	超音波で精密洗浄。高清浄度を実現する次世代自動洗浄装置。	温水乾燥で高精度洗浄。再現性と効率を両立した自動装置。	大型スリーブを全自動処理。均一膜を実現する高精度2槽式装置。	複数基板を高精度処理。2槽循環で安定膜を実現する高効率装置。	ロール材を精密コート。均一膜と高再現性を両立する自動装置。	多液・洗浄一体化。高再現性を実現する多目的コートシステム。	大型基板を高精度処理。高剛性構造で均一膜を実現する2槽式装置。	8槽制御で多層膜を高精度形成。研究開発向け多工程装置。

量産用自動ディップコーター

製品選びのポイント: 自社の工程設計や管理体制と装置仕様のすり合わせが重要です。一貫ラインでは全体のバランスを考慮したライン設計が最重要であり、半自動機など人が介在する場合は品質安定化のための作業標準化が不可欠です。また、立体部品では膜ムラを防ぐ治具・制御設計が、高速処理では液の飛散対策が求められます。塗布液の削減と安定性はトレードオフになりやすいため条件設計に注意が必要です。最終的な膜品質は前処理や温湿度などの環境に直結するため、運用面の管理能力も考慮して選定してください。詳細は私たちに相談いただきながら進めること強くお勧めいたします。

量産ライン用ディップコーター（自動一貫）

製品型番
HC-1004

製品分類
自動 / 一貫ライン
仕様性能比較

主な導入ケース
洗浄から塗布・乾燥・UV硬化までの一連工程を自動化し、品質と生産性を両立したい場合

製品選定の決め手
洗浄から硬化までを一貫自動化し品質と生産性を同時に向上できる点

主な仕様や機能
ストローク215mm , 速度0.1〜40mm/sec , UV一貫ライン

適合規格,認証等

技術コメント
工程統合時は全体バランスが品質を左右するためライン設計が最重要
量産対応ディップコーター（半自動）

製品型番
SA-1503-S1

製品分類
半自動 / 多品種
仕様性能比較

主な導入ケース
多品種少量生産に対応しつつ、作業効率と品質のばらつきを抑えたい場合

製品選定の決め手
自動と手動を組み合わせ多品種少量に柔軟対応できる点

主な仕様や機能
ストローク550mm , 速度0.1〜99.9mm/sec , 半自動

適合規格,認証等

技術コメント
人操作が介在する場合は条件ばらつきが発生するため標準化が不可欠
立体対応ディップコーター（多軸）

製品型番
SA-1509UL

製品分類
多軸 / 立体対応
仕様性能比較

主な導入ケース
立体・複雑形状部品に対して全面均一な塗布を量産レベルで実現したい場合

製品選定の決め手
旋回機構により立体部品でも全面均一塗布を実現できる点

主な仕様や機能
ストローク250mm,速度0.1mm/sec,最大20mm/sec,2軸制御+旋回機構,UL認定

適合規格,認証等
UL認定

技術コメント
形状追従性が不足すると膜ムラが発生するため治具と制御設計が重要
省液型ディップコーター

製品型番
SA-1712

製品分類
省液 / 高効率
仕様性能比較

主な導入ケース
高価な塗布液の使用量を抑えつつ、安定した工程を維持したい場合

製品選定の決め手
少量タンク構造により塗布液の使用量を大幅に削減できる点

主な仕様や機能
ストローク680mm , 速度0.1〜60mm/sec , 省液設計

適合規格,認証等

技術コメント
液削減と安定性はトレードオフとなるため条件設計が重要
前処理用ディップコーター（洗浄）

製品型番
SA-1801

製品分類
前処理 / 洗浄
仕様性能比較

主な導入ケース
ガラス基板の前処理において高い洗浄性能とクリーン性を確保したい場合

製品選定の決め手
高性能超音波洗浄により安定した前処理品質を確保できる点

主な仕様や機能
ストローク680mm , 速度0.1〜60mm/sec , 超音波洗浄

適合規格,認証等

技術コメント
前処理のばらつきがそのまま製品品質に影響するため管理が重要
半導体対応ディップコーター

製品型番
SA-2203

製品分類
半導体 / フォトリソ
仕様性能比較

主な導入ケース
フォトリソ製造工程で複数処理を行いながら均一性を維持したい場合

製品選定の決め手
複数基板同時処理により均一性と処理効率を両立できる点

主な仕様や機能
ストローク330mm , 速度0.1〜60mm/sec , 4inch対応

適合規格,認証等

技術コメント
温度・湿度・清浄度が膜品質に直結するため環境制御が不可欠
高速多層ディップコーター

製品型番
SA-2210

製品分類
高速 / 多層処理
仕様性能比較

主な導入ケース
高速で多層膜を形成し、量産工程のスループットを最大化したい場合

製品選定の決め手
高速上下動制御により多層工程でも高いスループットを実現できる点

主な仕様や機能
ストローク480mm , 速度0.1〜1000mm/sec , 高速揺動

適合規格,認証等

技術コメント
高速化により液挙動が変化するため飛散・流動制御の最適化が必要

装置名	量産ライン用ディップコーター（自動一貫）	量産対応ディップコーター（半自動）	立体対応ディップコーター（多軸）	省液型ディップコーター	前処理用ディップコーター（洗浄）	半導体対応ディップコーター	高速多層ディップコーター
型式	HC-1004	SA-1503-S1	SA-1509UL	SA-1712	SA-1801	SA-2203	SA-2210
型式
ストローク	215mm	550mm	250mm	680mm	680mm	330mm	480mm
対象サイズ	W:116、H112、t1.0〜3.5mm	W:300×H:350×t20	複雑な立体構造物(200g以下)	W:515×H:404mm t1.0～1.4	W:515×H:404mm t1.0～1.4	4inchウエハー	W:180×H:300mm
対象材質	ポリカーボネート	ポリカ、金属、フィルム等	セラミック、金属、樹脂	ガラス板	ガラス板	ウエハー、金属、ガラス等	レンズ、アクリル
ディップ速度	0.1mm/sec～40mm/sec	0.1mm〜99.9mm/sec	0.1mm/sec〜20mm/sec	0.1mm/sec～60mm/sec	0.1mm/sec～60mm/sec	0.1mm/sec〜60mm/sec	0.1mm/sec～1000mm/sec
塗布液循環部	有	有	有	有	有	有	無
塗布液温度管理	有	有	有	無	無	無	無
フィルターメッシュ	10μm	有	有	有	有	有	無
乾燥部	有	有	無	有	有	有	無
乾燥温度	Max:50℃	100℃	無	60℃	120℃	100℃	無
ヘパユニット	有	有	有	有	有	有	無
装置サイズ(概寸)	W:1400×D:800×H:1900mm	W:2703×D1603:×H2075:mm	W1481×D1102×H2087mm	W:3644×D:1932×H:2617mm	W:3644×D:1932×H:2537mm	W:1805×D:1101.5×H:1828.5mm	W:1900×D:1000×H:2000mm
特徴とコメント	高精度ディップで均一硬化膜を形成。光学部品に最適な自動装置。	複数ワークを高精度処理。研究から量産まで対応する汎用装置。	2軸制御で複雑形状も均一膜。UL認定の高信頼セミオート機。	少量液で高精度膜を形成。低コストと高品質を両立する省液型装置。	超音波で微粒子を除去。高清浄度を実現するクリーン対応装置。	4インチ対応。高均一膜を実現する次世代フォトリソコート装置。	1000mm/secの高速制御で多層膜形成。高再現性ハイスピード装置。

学術研究における課題解決の事例紹介

SDIは科学の発展を支援し続けます

私たちSDIは、最先端の研究現場で挑戦を続ける皆様の良きパートナーでありたいと願っています。長年培ってきた精密な技術と、研究者目線でのきめ細やかなサポートにより実験の精度向上に貢献。確かな装置と提案力で、皆様の研究活動を全力でバックアップいたします。

東京大学国際・産学共同研究センター

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
鏡面研磨されたシリコンウェハー

薄膜の形成内容
酸化チタン光触媒（コーティング液として「日本曹達ビストレイターNDH-510C」を使用）

課題と解決内容
課題は、溶液の揮発性により乾燥環境で手早い操作が求められる点と、厚膜化時の均一性低下でした。導入したMD-0408は特注ハンガーにより迅速な基板着脱を可能にしました。また、引き上げ速度の精密な低速制御と繰り返しコーティング機能により、表面粗さを変えずに均一な製膜と自在な膜厚制御を実現し解決しました。
大阪大学大学院工学研究科

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
ガラス基板等の薄膜評価用基板

薄膜の形成内容
汎用ポリマー（PCzおよびPMMA）の溶液を用いたポリマー薄膜の作製

課題と解決内容
課題は、既存手法で制御が難しい広範囲な膜厚の安定的な実現や、乾燥過程で生じる表面荒れ等の問題でした。導入した装置は「引き上げ速度」を低速から広範囲かつ高精度に制御できる機能を備えており、溶液濃度の調整と組み合わせることで、膜厚を自在にコントロールし、均一なポリマー薄膜の作製を実現しました。
関西大学化学生命工学部

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
Si(100)ウェーハ

薄膜の形成内容
シリカおよびチタニアの前駆溶液（Si(OCH3)4 や Ti(OC3H7i)4 等）を用いた、シリカゲル膜およびチタニアゲル膜の作製

課題と解決内容
課題は、ゾル-ゲル法で作製するコーティング膜の表面に発生するマイクロオーダーの凹凸（筋状パターン）の形状やサイズの制御でした。導入した装置が備える「1.0cm/min以下という極めて低速での安定した引き上げ機能」を活用し、速度を変化させることで、パターンの高さや間隔の自在な制御を実現しました。
広島大学

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
Si/SiO2（シリコン/二酸化シリコン）基板

薄膜の形成内容
有機半導体（ポリマー材料であるP3HT：ポリ-3-ヘキシルチオフェンのクロロホルム溶液）

課題と解決内容
従来のスピンコート法と同等の良質な有機半導体薄膜をディップコート法で作製・評価することが課題でした。導入したディップコーターの精密な引き上げ速度制御機能を活用し、様々な速度での成膜条件を検証した結果、スピンコート膜と同様に均一で同等のトランジスタ性能を持つ良質な薄膜の形成に成功しました。
広島大学

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
未処理のn+-Si / SiO2基板

薄膜の形成内容
C8-BTBTのクロロホルム溶液（濃度 0.8 wt %）

課題と解決内容
一度の引き上げでは有機薄膜を作製できないという課題がありました。しかし、機器の速度・時間制御および繰り返し機能を活用し、10 mm/secで溶液に入れ5秒間浸漬後、40 mm/secで引き上げる一連の工程を10回程度繰り返すことで、薄膜の作製に成功しました。
山梨大学大学院医学工学総合研究部

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
ガラス基板（あらかじめ有機溶剤洗浄およびUV照射による親水化処理を施したスライドガラス）

薄膜の形成内容
ヒドロキシプロピルセルロース（HPC）水溶液（純水で4wt%濃度に調製したもの）

課題と解決内容
有機薄膜に配向性を付与し機能性を発現させるという課題に対し、ナノメートルオーダーの速度制御精度を持つマイクロディップコーターを導入しました。この高精度な機能により、HPC水溶液から基板を一定の微低速で引き上げることが可能となり、一軸配向した有機薄膜の形成に成功しました。
株式会社エヌアイマテリアル

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
スライドガラス

薄膜の形成内容
フッ素系材料（自社製コーティング剤）

課題と解決内容
揮発が早く均一なフッ素系コーティング膜の形成が困難という課題に対し、精密ディップ装置を用いて成膜条件を検証。引き上げ速度1mm/secで3回重ね塗りを行う機能的なアプローチにより、相分離や凝集を起こすことなく、最大7μmの均一なフッ素系材料の厚膜を形成することに成功しました。
日本バイリーン株式会社研究所

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
日本バイリーン株式会社製オレフィン不織布（※濡れ性向上のためにプラズマ処理を施したもの）

薄膜の形成内容
平均粒子径4μmの無機粒子および、バインダーを20%の濃度となるように調整した水系含浸液

課題と解決内容
従来の装置では含浸ムラが生じることが課題でした。SDIのディップコーターの「精密な定速引上げ機能」を活用することで、引上げ速度と粒子の付着状態の関係を検証し、従来に比べて含浸ムラの少ない均一な処理が可能になりました。これにより、無機粒子の機能性を生かした新素材の開発へと繋がりました。
アインテスラ中央研究所

装置名
MD-0408 （１軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
研磨により薄くしたカバーガラス（22×22mm）

薄膜の形成内容
エポキシ樹脂、ならびにエポキシ樹脂に銅粉末、または鉄粉末を混錬したもの

課題と解決内容
有機材料と無機材料を複合化した「異方性多層微粒子」の製造方法の確立が課題でした。これを解決するため、ディップコーターの液相からの薄膜形成機能を利用し、ガラス基材へ樹脂や金属粉末混錬樹脂を均一に積層塗布しました。この薄膜形成基材を粉砕する手法により、目的の多層微粒子を簡単に製造することに成功しました。
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻平尾研究室

装置名
ND-0407（２軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
基板

薄膜の形成内容
PMMA（ポリメタクリル酸メチル）溶液、単分散シリカ粒子を分散させた溶液

課題と解決内容
フォトニック結晶として機能するコロイド結晶（オパール膜）の作製において、数百ナノオーダーでの均一な膜厚制御が課題でした。これに対し、最小引上げ速度10nm/secの制御機能を持つナノディッピング装置を導入しました。結果として均一な薄膜の形成が可能になり、きれいな構造のオパール膜の作製に成功しました。
上智大学理工学部物質生命理工学科

装置名
ND-0407（２軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
片面鏡面研磨したSiウェハー

薄膜の形成内容
酸化チタン（TiO2）薄膜を作製するための化学溶液

課題と解決内容
所望の薄膜を効率的に得るには、溶液の特性だけでなく装置側の条件も精密に制御する必要があるという課題がありました。そこで、引き上げ速度や角度を精密に制御可能なナノディップコーターを導入しました。これにより、引き上げ条件が膜厚等に与える影響を詳細に検証でき、精密かつ多様な薄膜堆積の制御が可能となりました。
日本大学文理学部物理生命システム科学科

装置名
ND-0407（２軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
無蛍光スライドガラス（1x3 cm）

薄膜の形成内容
ポリスチレン微粒子（粒径200 nm）水溶液（濃度1 wt%）

課題と解決内容
微粒子構造体の作成において、基板設定角度が構造生成プロセスに与える影響の検証が課題でした。カスタマイズされたナノディップコーターを導入し、基板を45度など斜めに設定して引き上げ速度を制御することで、微粒子サスペンジョンの流れを変化させ、広範囲の単層や縞状配列など興味深い構造体の生成が確認できました。
芝浦工業大学工学部電気工学科

装置名
ND-0407（２軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
親水処理を施したシリコン基板

薄膜の形成内容
サブミクロンシリカ微粒子（粒径500nmの単分散性シリカ微粒子）を純水中に分散させたコロイド水溶液

課題と解決内容
従来のメニスカス法等による微粒子の配列構造形成では、蒸発速度の制御が難しい点が課題でした。SDIのナノディップコーターが持つ「精密な引き上げ速度の制御機能」を用いることで、引き上げ速度や溶液濃度に応じた微粒子の堆積・配列状態を詳細に検証でき、密な配列や多層構造の形成などの精密な制御が可能となりました。
アインテスラ中央研究所

装置名
ND-0407（２軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
親水処理を施したシリコン基板

薄膜の形成内容
単分散性サブミクロンシリカ微粒子（粒径500nm）を分散させたコロイド水溶液

課題と解決内容
シリカ微粒子の配列構造形成において、従来法（メニスカス法等）では蒸発速度の制御が課題でした。これを解決するため、引き上げ速度の精密な制御が可能な「ナノディップコーター」を導入しました。超低速での引き上げ制御により微粒子の崩れや空乏が抑制され、ほぼ最密充填構造となる均一な微粒子配列の形成に成功しました。
アインテスラ中央研究所

装置名
ND-0407（２軸ナノ制御のディップコーター）

コーティング基材
多孔体

薄膜の形成内容
金属酸化物など（多孔体へ薄膜として形成するもの）

課題と解決内容
多孔体の細孔内部を塞がずに表面のみを均一にコーティング（薄膜形成）することが課題でした。これを解決するため、ナノディップコーターの超低速（数nm/sec～数?m/secレベル）での引き上げ機能を利用しました。これにより、細孔への毛細管現象による液の浸入を防ぎつつ、表面のみへ均一な薄膜を形成することに成功しました。

ディップコーティング支援事業について

最適な装置選びのご支援
ディップコーターの専門メーカーだからそこの視点や解決策。是非ご活用ください
ディップコーターの装置レンタル
「まず試す」「すぐ使う」とういうニーズに応える支援サービスとなります。
受託コーティング
プロのノウハウと設備をフル活用し、クオリティを実感頂ける支援サービスとなります。

最適な装置選びのご支援

ディップコーターを活用した試作・評価から量産化まで、あらゆるフェーズの課題に寄り添います。
専門メーカーならではの知見で、お客様の状況に合わせた最適なソリューションをご提案いたします。

試作・評価シーンのお客様向け

ディップコーティングの試作・評価でお悩みではありませんか？「やりたい事は決まっているが予算や期間に制限がある」「どの選択肢が最適か分からない」といったお客様へ、プロの視点で解決策をご提案します。

ご予算や用途に合わせた
装置のご購入
必要な期間だけ利用できる
装置レンタル
弊社設備を利用する
受託コーティング

上記の中からお客様の状況に合わせて最も無駄のない方法へと導きます。まずはお気軽にご相談ください。

量産検討中のお客様向け

試作や評価を終え、量産化を検討されているお客様へ。量産ラインへの移行には特有の課題が伴います。弊社では専門メーカーの知見を活かし、以下の視点から最適な装置選びをアドバイスいたします。

安定した連続稼働を
実現する装置の選定
歩留まりや品質向上の
ためのプロセス構築
専用治具や自動化への
カスタマイズ対応

量産を見据えた確実なステップアップに向けて、まずはお気軽に弊社までご相談ください。

ディップコーターの装置レンタル

ディップコーターのレンタルなら、初期費用を抑えてスムーズに評価や検証をスタートできます。
豊富なラインナップの中から、お客様の用途と期間に最適な一台をご提案いたします。

メリットとデメリット

購入前の検証や一時的な設備増強として導入しやすく、「まず試す」「すぐ使う」ニーズに応えます。導入のハードルが低いため、初めての方でも安心してご利用いただけます。まずはお気軽にご相談ください。

メリット: 初期投資不要でディップコーティング評価が可能; 補助金活用や経費処理で柔軟な導入が可能; 購入に比べ稟議や書類手続きが簡易

デメリット: 長期利用では購入よりコストが高くなる場合がある; 利用期間の事前計画が必要

ディップコーターのレンタルは、ディップコーティングの評価・短期利用に加え、補助金活用や社内手続きの簡略化を重視する場合にも有効です。

レンタル対応機種一覧

ナノ精度ディップコーター（卓上型）

製品型番
ND-0407-N1-CE

製品分類
レンタル可能

主な導入ケース
ディップコーターによるナノ領域の薄膜形成や粒子配列において、極低速かつ安定したディップコーティング制御で精密構造を実現したい場合

製品選定の決め手
ナノ単位制御とθ角制御で超低速・高精度コーティングを実現。2軸同期制御により斜め引上げやオパール膜形成など微細構造制御に最適。CEマーキング適合品。

主な仕様や機能
ストロークZ150,X150mm , 速度1nm,sec〜60mm/sec , 2軸制御

適合規格,認証等
CEマーキング適合品 , 登録商標：ナノディップ®

担当者コメント
京都大学平尾研究室の指導により開発。最大16ポイントの速度設定、8種類の動作パターン登録が可能。日英表示切替対応で国際的研究環境にも適応。
ナノ精度ディップコーター（汎用卓上）

製品型番
MD-0408-N1-CE

製品分類
レンタル可能

主な導入ケース
ディップコーティングで微細膜の再現性と操作性を両立し、安定した評価を効率よく進めたい場合

製品選定の決め手
1nm/secから60mm/secまでの広範囲な速度制御。ナノレベルでの膜厚制御が求められる分離膜生成、粒子配列、薄膜形成研究に最適化。CEマーキング適合品。

主な仕様や機能
ストローク150mm(最大300mmまで) , 速度1nm,sec〜60mm/sec , 卓上型

適合規格,認証等
CEマーキング適合品 , 登録商標：マイクロディップ®

担当者コメント
つくば産総研の監修のもと開発。精密制御性と操作性を高次元で両立した研究者向けモデル。繰返し設定を直感的に行える操作性。
汎用ディップコーター（小型評価用）

製品型番
DT-0303-N1-CE

製品分類
レンタル可能

主な導入ケース
初期検討や小型試料評価において、シンプルかつ迅速にコーティング条件を把握したい場合

製品選定の決め手
卓上で精密な薄膜形成を実現。研究室や分析装置隣接環境での小試料コーティングに適したコンパクトモデル。CEマーキング適合品。

主な仕様や機能
ストローク300mm , 速度0.01〜60mm/sec , 汎用

適合規格,認証等

担当者コメント
ガラス片、アクリル、金属箔、チューブ状試料など多様なワークに対応。両面同時に均一な薄膜形成が可能。設置スペース最小限で安定したコーティング品質を確保。
簡易ディップコーター（ポータブル）

製品型番
DT-0001-N1

製品分類
レンタル可能

主な導入ケース
持ち運びや簡易評価用途において、低コストかつ即時実験が可能な環境を構築したい場合

製品選定の決め手
軽量・簡易・低コスト。持ち運び自在でパソコン接続不要。電源投入のみで動作可能なため出張実験や限られたスペースでも迅速に使用可能。

主な仕様や機能
ストローク150mm , 速度1μm/sec〜 , ポータブル

適合規格,認証等
登録商標：ポータブルディップ®

担当者コメント
導入コストを抑えつつ安定した昇降動作と再現性を確保。初期評価・簡易試験・教育用途にも最適。ポータブルディップコーターのスタンダードモデル。
リニア制御ディップコーター（膜厚制御用）

製品型番
LD-1304-S2

製品分類
レンタル可能

主な導入ケース
ディップコーティングにおいて膜厚グラデーションを制御し、新しい機能性コーティングを設計したい場合

製品選定の決め手
独自のリニア速度制御方式により、コーティング中の速度を連続的かつ滑らかに変化可能。膜厚グラデーション形成やプロセス依存性評価に最適。

主な仕様や機能
ストローク300mm , 速度0.1〜200mm/sec , リニア制御

適合規格,認証等

担当者コメント
0.1mm/secから200mm/secまで対応。リニア変化モードと従来モードはワンタッチ切替可能。高い再現性と直感的な操作性を両立した先進ディップコーター。
多軸回転ディップコーター（複雑形状対応）

製品型番
LD-2404-N1

製品分類
レンタル可能

主な導入ケース
ディップコーティングにおいて複雑形状や多面ワークへ均一なコートを行いたい場合

製品選定の決め手
回転軸と昇降軸の協調制御で複雑形状にも均一膜形成。半球・湾曲・傾斜面などの複雑形状試料に対応し、角度制御しながら均一な膜形成を実現。

主な仕様や機能
ストローク300mm,昇降速度:0.001mm/sec,最大:200mm/sec,回転:0.001deg/sec,最大20deg/sec,回転+昇降制御

適合規格,認証等

担当者コメント
1μm/sec〜200mm/secの業界トップクラスの広範囲制御。リニアモードへのワンタッチ切替も可能で、平面試料から立体構造体まで幅広く対応する次世代ディップコーター。

受託コーティング

ディップコーターの自社導入が難しい場合でも、当社の受託コーティングなら手軽に高品質な試作・評価が可能です。
クリーンルーム環境と専門技術者のノウハウで、お客様の製品開発プロセスを強力にサポートいたします。

メリットとデメリット

受託コーティングは、自社に専用設備がない場合や、量産を見据えた条件出しを行いたい研究開発・試作段階のケースに強くお勧めします。特に以下のようなメリットとデメリットがあります。

メリット: 専用クリーンルーム完備により、ホコリを嫌う光学部品なども高品質に処理可能; 自社設計の専用治具により、3Dプリンター造形品等の複雑形状にも均一に塗布; き上げ速度や温度等の詳細パラメータを記した報告書により高い再現性が得られる

デメリット: 試作のたびにワークや塗料の発送手配を行う手間や輸送期間がかかってしまう; 社内に設備を置かないため、現場での即時的なトライアンドエラーが難しい

精密な条件制御や市販装置では対応できない形状への塗布が求められる場合、プロのノウハウと設備を活用できる本サービスは非常に有効です。

受託によるディップコーティングの流れ

受託コーティングの大まかな進め方は以下の通りです。

お問い合わせ・
ヒアリング
試作プランのご提案・
お見積り
ワーク・塗料の発送
（ご支給）
専門技術者による
受託試作
詳細な試作報告書と
サンプルのご返却

ご相談時の注意点: スムーズなご提案のため、ワークの形状・材質、塗料の種類、目標とする膜厚などを事前にお伝えください。; 機密保持契約（NDA）の締結も可能ですので安心してご相談いただけます。

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ディップコーティングのお役立ちコラム

2026/10/22 Agナノワイヤーと導電性高分子のディップコーティング｜透明電極の均一成膜と分散安定性

スマートフォンやフレキシブルディスプレイの進化を支える「透明電極」。従来のITO（酸化インジウムスズ）に代わり、折り曲げ可能なAg（銀）ナノワイヤーや導電性高分子（PEDOT:PSSなど）の塗布プロセスが注目されています。透明性と導電性を両立させるには、ナノレベルの均一な膜厚制御が不可欠です。本記事では、ナノ材料特有の「凝集」問題と、大面積に均一な透明電極を形成するためのコーティング制御について詳述します。

1. ナノ材料塗布における「凝集」の罠

均一な分散状態をどう維持するか

Agナノワイヤーや導電性高分子の液は、溶媒の中に微細な導電性材料が分散して漂っている状態です。こ…

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2026/10/15 多孔質電極・セパレーターへの含浸コーティング｜内部まで均一に浸透させるディップコート技術
2026/10/08 リチウムイオン電池へのスラリー塗布｜高粘度・高濃度液をディップコートする条件
2026/10/01 ペロブスカイト太陽電池の大面積塗布｜スピンコートからディップコートへの移行
2026/09/24 タッチパネルの防汚（フッ素）コーティング｜撥水・撥油材料を均一に塗る最適条件
2026/09/17 光導波路や積層膜（マルチレイヤー）のディップコーティング｜界面のぼやけを防ぐ膜厚制御
2026/09/10 ガラスレンズや曲面へのハードコート｜ディップコーティングの膜厚ムラを防ぐ変速引き上げ: 全てのディップコーティングのお役立ちコラムを見る

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