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多槽多層プロセスディップコーター OD-2304-N1-CE

ディップコーター(薄膜形成装置) 多槽 / 多層形成

【本製品は、EU安全指令に基づく CEマーキング適合品 です。】 最大10槽の液槽を自在に制御。1 nm/sec〜60 mm/secの精密動作で多層膜研究を支える。
多槽多層プロセスディップコーター(オルタネイトディップ®コーター)は、最大10個の液槽を横方向に配置し、任意の順序で自動浸漬処理を行える高精度ディップコーターです。1 nm/sec〜60 mm/secの広範囲速度制御に対応し、ディップコート法を用いた多層膜形成やプロセス研究に最適です。処理速度・停止位置・浸漬時間はすべてタッチパネル上で直感的に設定可能。CEマーキング適合品としてEU安全・環境基準を満たし、欧州研究機関への導入にも対応します。タンクやラボジャッキを交換・拡張することで、溶液系や試料条件に合わせた柔軟な構成が可能。精密な反復動作と高い再現性で、ナノレベルの表面改質・多層膜開発を支える装置です。
主 仕 様
ストローク Z軸:150mm、X軸:150mm
最小速度(Min) 1nm/sec
最大速度(Max) 60mm/sec
操作方法 タッチパネル
画面文字 日本語/英語
処理速度指定ポイント数 16ポイント
停止位置指定ポイント数 16ポイント
停止時間指定ポイント数 16ポイント
連続運転モード 有
マニュアル運転モード 有
記憶プログラム数 8プログラム
モニター機能:現在速度 有
モニター機能:現在位置 有
モニター機能:動作残時間 有
繰り返し運転 有
標準クリップ PP材
ユーティリティー AC100V-240V、300VA
最大可搬重量 500g
最大処理サイズ:mm H:150mm
装置サイズ:突起含まず:mm W:410 D:256 H:513mm(11kg)
コントロールBOXサイズ:突起含まず W:380 D:400 H:200mm(10kg)

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