ディップコーターについて

ディッピング法によるプロセス

試料を垂直にして所定のコーティング液に浸漬し、その後上方に引き上げて、 付着の液膜を空気中(気相中)でゲル化する方法。
1.ディップ 2.引き上げ 3.コーティング 4.薄膜形成及び乾燥

引き上げ速度と膜厚の関係

焼成前の原料膜の厚さに関して ※1
焼成後の膜の厚さxは焼成前の原料膜の厚さhに比例するはずで、影響を及ぼす製膜パラメーターとしては、塗布溶液の密度d(単位面積当たりの質量)および粘度η、ならびにディップコート時の引き上げ速度uが考えられる。aは係数、gは重力加速度である。
※1 出典 最新透明導電膜動向(2005)
引き上げ速度と溶液濃度で膜厚をコントロールする。
→ 引き上げ濃度が低速なほど薄膜に
  引き上げ速度が高速なほど厚膜になります。

引き上げ速度と膜厚の関係

【1】 ガラス基板を酸化チタン前駆体溶液NDH-510C(日本曹達)に浸漬させディップコーティングを行った例
※出典 マイクロディップコーターMD-0408-S2を用いた酸化チタン薄膜の作製  東京大学生産技術研究所 坂井伸行 立間徹
【2】 銅板にフォトレジストをディップコーティングした時の膜厚分布例
[基盤引き上げ速度 詳細]
膜厚測定ポイント
基盤つかみ代 4mm

《基盤引き上げ速度:15mm/sec》
基盤厚み:t=0.1mm 及び 1.0mm
基盤サイズ:510×510mm
A~Fを100mm間隔で測定
A及びFについては5mm毎に3点を測定した。
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